双面位置对准装置与方法

摘要

本发明提出一种双面位置对准装置及方法。双面位置对准装置包括具有掩模对准标记的掩模版、具有基准对准标记的工件台、硅片照明系统和光学投影系统，且上述掩模版为水平设置，更包括掩模位置对准装置、曝光对象、第一面位置对准装置、第二面位置对准装置、图像采集与处理系统以及控制系统。本发明的双面位置对准装置及方法可以降低曝光对象工件台结构设计和装配的复杂度，也可提高硅片背面位置对准装置对硅片背面对准标记的工艺适应性。

主权项

一种双面位置对准装置，具有掩模对准标记的掩模版、具有基准对准标记的工件台、硅片照明系统和光学投影系统，且上述掩模版为水平设置，其特征在于包括：掩模位置对准装置，设置于上述掩模版的上方，且上述掩模位置对准装置包括紫外成像探测器件，上述掩模对准标记和上述基准对准标记分别成像于上述紫外成像探测器件上；曝光对象，设置于上述工件台，且上述曝光对象包括第一面和第二面，且上述第一面包括第一位置对准标记，上述第二面包括第二位置对准标记；第一面位置对准装置，设置于上述曝光对象的上方和上述光学投影系统的一侧，且上述第一面位置对准装置包括可见光成像探测器件，上述基准对准标记和上述第一位置对准标记分别成像于上述可见光成像探测器件上；第二面位置对准装置，设置于上述曝光对象的上方，并且与上述第一面位置对准装置设置于上述光学投影系统的同一侧，且上述第二面位置对准装置包括红外成像探测器件，上述基准对准标记和上述第二位置对准标记分别成像于上述红外成像探测器件上；图像采集与处理系统，采集上述掩模对准标记和上述基准对准标记在上述紫外成像探测器件上所成的像，确定上述掩模版相对于上述工件台的第一位置以对准上述掩模版和上述工件台，采集上述基准对准标记和上述第一位置对准标记在上述可见光成像探测器件上所成的像，确定上述曝光对象的上述第一面相对于上述工件台的第二位置以对准上述曝光对象的上述第一面和上述工件台，依据上述第一位置和上述第二位置确定上述曝光对象的上述第一面相对于上述掩模版的第三位置，并采集上述基准对准标记和上述第二位置对准标记在上述红外成像探测器件上所成的像，确定上述曝光对象的上述第二面相对于上述工件台的第四位置以对准上述曝光对象的上述第二面和上述工件台，依据上述第一位置和上述第四位置确定上述曝光对象的上述第二面相对于上述掩模版的第五位置；以及控制系统，依据上述第三位置控制上述掩模版和上述曝光对象的上述第一面对准，以及依据上述第五位置控制上述掩模版和上述曝光对象的上述第二面对准。