| 发明名称 | 锂离子电池锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于化学电源领域，具体涉及锂离子电池用锡钛薄膜负极的磁控溅射制备方法。其特征在于，使用纯锡和纯钛两个靶交替溅射或者共溅射制备锡钛薄膜，然后在室温至300℃间保持0-6h退火处理。在两靶交替溅射方法中，交替次数大于1时，根据首先溅射的物质，可以形成Sn/Ti或Ti/Sn叠层膜。本发明所公开的方法工艺简单，成本低，有利于环保；所制备的薄膜用作锂离子电池负极，具有较高的比容量和优异的循环性能。 | ||
| 申请公布号 | CN102212789A | 申请公布日期 | 2011.10.12 |
| 申请号 | CN201110114606.4 | 申请日期 | 2011.05.05 |
| 申请人 | 电子科技大学 | 发明人 | 李晶泽;霍文培;刘凯;王毅;周爱军 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;H01M4/1395(2010.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 用作锂离子电池负极的锡钛薄膜的磁控溅射制备方法，其特征在于，使用纯锡和纯钛两个靶交替溅射或者共溅射制备锡钛薄膜，然后在室温至300℃间保持0‑6h退火处理。 | ||
| 地址 | 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号 | ||