用于光刻蚀法的涂料组合物

摘要

提供一种用于光刻蚀法的涂料组合物，其包括一种或多种含有一种或多种改性的二酰亚胺基团的树脂。这些涂料组合物被特别用作外涂的光致抗蚀剂层的抗反射层。优选的体系可被热处理以增加所述组合物涂料层的亲水性，从而阻止与外涂的有机组合物层的不希望的混合，而在使用碱性水溶液光致抗蚀剂显影剂时可使得组合物涂料层是可移除的。

主权项

一种电子器件的制备方法，其包括：在基底上施涂有机组合物，所述有机组合物包括一种或多种含有改性二酰亚胺基团的树脂；以及在施涂另外的组合物之前，热处理所施涂的有机组合物层，其中所述热处理使得所述一种或多种树脂的分子量增加不会超过50％，并导致所述改性二酰亚胺基团的解封反应，所述有机组合物不含有交联剂，在所述有机组合物上施涂光致抗蚀剂组合物。