| 发明名称 |
图案化的方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI350570 |
申请公布日期 |
2011.10.11 |
| 申请号 |
TW096136782 |
申请日期 |
2007.10.01 |
| 申请人 |
聯華電子股份有限公司 新竹市新竹科學工業園區力行二路3號 |
发明人 |
郭龙恩;廖俊雄 高雄市苓雅区三多一路283巷2弄1号;杨闵杰 新竹市新竹科学工业园区力行路9号 |
| 分类号 |
H01L21/469 |
主分类号 |
H01L21/469 |
| 代理机构 |
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代理人 |
詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1 |
| 主权项 |
一种图案化的方法，包括：在一基底上形成一膜层；测量一前层相关资料；以及进行一蚀刻制程，以蚀刻该膜层，该蚀刻制程依序包括一主蚀刻步骤、一蚀刻终点侦测步骤、一延伸蚀刻步骤以及一过度蚀刻步骤，其中该延伸蚀刻步骤之蚀刻速率与该蚀刻终点侦测步骤相同，且施行该延伸蚀刻步骤的时间是依据一预定之延伸蚀刻时间与前层相关资料的关系而设定在10秒以内，以达到所需之膜层轮廓。 |
| 地址 |
新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |
