半导体装置之制造方法及基板处理装置

主权项

一种半导体装置之制造方法，具备有：将基板搬入反应炉内的步骤；对前述反应炉内供给前处理气体，对基板进行前处理的步骤；对前述反应炉内供给处理气体，对于做完前述前处理的基板进行本处理的步骤；以及从前述反应炉搬出前述本处理后之基板的步骤；在前述前处理步骤中，把矽烷系气体当作前述前处理气体供给到前述反应炉内；在前述前处理结束之后，至前述本处理开始为止的期间，至少在真空排出前述反应炉内的空气之际，于前述反应炉内经常持续供给氢气。