发明名称 配线电路形成用基板、配线电路基板以及金属薄层之形成方法
摘要
申请公布号 TWI350721 申请公布日期 2011.10.11
申请号 TW094119239 申请日期 2005.06.10
申请人 日東電工股份有限公司 日本 发明人 内藤俊树 日本;山崎博司 日本
分类号 H05K3/38 主分类号 H05K3/38
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 一种配线电路形成用基板,系具有:绝缘层、以及形成在上述绝缘层之上的金属薄层,上述金属薄层系含有二种以上之金属,并且,藉由不同种类之金属共存的金属共存部分之存在,而构成在不同种类之金属间于厚度方向不会形成界面,在上述金属薄层之厚度方向,上述金属共存部分系以50%以上之比例存在。
地址 日本