发明名称 |
配线电路形成用基板、配线电路基板以及金属薄层之形成方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI350721 |
申请公布日期 |
2011.10.11 |
申请号 |
TW094119239 |
申请日期 |
2005.06.10 |
申请人 |
日東電工股份有限公司 日本 |
发明人 |
内藤俊树 日本;山崎博司 日本 |
分类号 |
H05K3/38 |
主分类号 |
H05K3/38 |
代理机构 |
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代理人 |
洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼 |
主权项 |
一种配线电路形成用基板,系具有:绝缘层、以及形成在上述绝缘层之上的金属薄层,上述金属薄层系含有二种以上之金属,并且,藉由不同种类之金属共存的金属共存部分之存在,而构成在不同种类之金属间于厚度方向不会形成界面,在上述金属薄层之厚度方向,上述金属共存部分系以50%以上之比例存在。 |
地址 |
日本 |