| 摘要 |
<p>본 발명의 이온 주입 장치(10)는, 이온 빔을 생성하는 이온원(22)과, 띠상(狀) 이온 빔으로 정형(整形)하는 빔 정형부(20)와, 띠상 이온 빔의 두께 방향의 두께를 얇게 하여 수속(收束)시킨 후, 처리 기판(62)에 조사(照射)시키는 빔 수송부(30)와, 띠상 이온 빔을 처리 기판(62)에 조사하는 처리부(60)와, 띠상 이온 빔의 빔의 두께 방향에 있어서의 전류 밀도의 합계값을, 빔 폭의 방향의 분포로 나타낸 전류 밀도 분포를 조정하는 렌즈 요소(40)를 가지고, 렌즈 요소(40)는, 이온 빔의 수속 위치(52)의 근방의 영역에, 이온 빔의 전류 밀도 분포가 조정되도록 설치되어 있다. 이 구성에 의하여, 띠상 이온 빔의 일부분을 띠상 이온 빔의 면 내에서 작게 휘게 하여 전류 밀도 분포를 정도 좋게 조정할 수 있다.</p> |
