| 摘要 |
1. Устройство электронной литографии, содержащее технологическую камеру, в которой установлены катод-маска и анод, и систему коррекции изображения, воздействующую на эммитируемые маской электроны, отличающееся тем, что катод-маска выполнен из двух материалов с разными коэффициентами вторичной ионно-электронной эмиссии, в катодно-анодном промежутке установлен дополнительный электрод, имеющий отверстие для пролета электронов к обрабатываемой подложке с резистом, которая устанавливается на аноде, причем дополнительный электрод, обеспечивающий создание тлеющего разряда, электрически соединен с анодом, а корпус заполнен рабочим газом: либо инертным газом, либо аргоном, либо водородом. ! 2. Устройство электронной литографии по п.1, отличающееся тем, что материалы катода-маски различаются коэффициентами вторичной ионно-электронной эмиссии на порядок. ! 3. Устройство электронной литографии по п.1, отличающееся тем, что система коррекции изображения, воздействующая на эммитируемые маской электроны, выполнена в виде электромагнитной катушки, длина которой превышает диаметр. |
