发明名称 Methods for fabricating the thin film graphene
摘要 <p>본 발명은 그라핀(graphene) 박막을 형성하는 방법에 관한 것으로서, 기판 상에 그라핀 분산액을 분무 증착(spray deposition)하여 그라핀 박막을 형성하는 것에 특징이 있다. 상기 그라핀 분산액은 산화 그라파이트에 히드라진을 첨가함으로써 형성될 수 있으며, 상기 산화 그라파이트에 히드라진을 첨가하는 단계 이후에 상기 그라핀 분산액을 희석하는 단계를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따라 형성된 그라핀 박막은 투명하고 높은 도전성을 가진다.</p>
申请公布号 KR101071224(B1) 申请公布日期 2011.10.10
申请号 KR20090040947 申请日期 2009.05.11
申请人 发明人
分类号 H01L21/20;H01L21/208 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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