发明名称 EXPOSING MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR AND EXPOSING METHOD
摘要 간단한 구성이면서 충분한 계조수를 얻을 수 있는 3차원 형상을 노광에 의해 형성하기 위한 노광용 마스크이다. 본 발명은, 노광장치(S)에서 사용되는 노광용의 마스크(M)에 있어서, 노광장치(S)에서 출사되는 빛을 차단하는 차광 패턴과, 이 빛을 투과하는 투과 패턴의 쌍으로 구성되는 패턴 블록이 복수 연속하여 배치되어 있는 동시에, 그 연속하는 패턴 블록의 피치가 일정하며, 더구나 차광 패턴과 투과 패턴의 비율이 서서히 변화하도록 설치되어 있다.
申请公布号 KR101070702(B1) 申请公布日期 2011.10.07
申请号 KR20047014520 申请日期 2004.01.28
申请人 소니 주식회사 发明人 오자와 켄
分类号 G02B5/00;G02B3/00;G03F1/68;G03F1/70;G03F7/20 主分类号 G02B5/00
代理机构 代理人
主权项
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