发明名称 PRODUCTION PROCESS OF COPOLYMER FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY
摘要 <p>적어도 하나의 에틸렌성 이중결합을 갖는 중합성 모노머를 중합 용매의 존재하에 중합 개시제와 라디칼 중합시켜서 반도체 리소그래피용 공중합체를 제조하는 방법은, 필터 매체에 의해서 액공급수단과 교반수단을 구비한 제 1부분과 액추출수단을 구비한 제 2부분으로 나뉘어진 밀폐가능한 하나의 용기 내에서, 다음의 침전단계(1) 및 여과단계(2)에 의해서, 라디칼 중합에 의해서 얻어진 중합반응 혼합액을 정제하는 것을 포함한다: (1) 중합반응 혼합액을 액공급수단으로부터 빈용매가 들어간 용기의 제 1부분에 공급하고, 중합반응 혼합액을 빈용매와 접촉시켜서 고형물을 침전시키는 침전단계; 및 (2) 고형물이 침전된 액을 여과용 필터로 여과하고, 액추출수단을 통해서 얻어진 여과액을 추출하고, 다음에 침전된 고형물을 분리하는 여과단계.</p>
申请公布号 KR101070764(B1) 申请公布日期 2011.10.07
申请号 KR20040085117 申请日期 2004.10.23
申请人 发明人
分类号 C08F6/00;C08F6/12;C08F118/02;C08F220/06;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/09 主分类号 C08F6/00
代理机构 代理人
主权项
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