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发明名称
Manufacturing Method of Schottky Barrier Tunneling Transistor
摘要
<p>본 발명에 따라 제조된 쇼트키 장벽 트랜지스터 소자는 통상의 방법으로 제작된 소자 보다 전기적 및 구조적 특성이 우수하기 때문에 고품질의 쇼트키 장벽 트랜지스터 소자를 제작할 수 있다.</p>
申请公布号
KR101070869(B1)
申请公布日期
2011.10.06
申请号
KR20090034588
申请日期
2009.04.21
申请人
发明人
分类号
H01L21/336;H01L29/78
主分类号
H01L21/336
代理机构
代理人
主权项
地址
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