发明名称 |
光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法 |
摘要 |
一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统,图案形成装置,低通滤光器,和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图案导出的图案数据进行操作,以便形成主要只包括低于选择的门限值频率的空间频率部分的频率限制的目标剂量图案。数据操作处理装置产生包括要由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于从点曝光强度至频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。在各种实施例中,可以使用图案锐化,图像对数斜率控制,和/或CD偏置的滤光器。 |
申请公布号 |
CN1841211B |
申请公布日期 |
2011.10.05 |
申请号 |
CN200610073329.6 |
申请日期 |
2006.03.29 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
P·A·J·蒂内曼斯;J·J·M·巴塞尔曼斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
一种光刻装置,包括:将辐射光束以次辐射光束阵列投射到衬底上的投影系统,所述投影系统包括微透镜阵列;调制次辐射光束以便在衬底上基本上产生所要求的剂量图案的图案形成装置,该剂量图案由点曝光阵列建立,其中至少相邻的点曝光相互之间非相干地成像并且各点曝光由其中一个次辐射光束在某一时刻产生,并且相邻的点曝光是在不同的时刻被成像;低通滤光器,其对从所要求的剂量图案导出的图案数据进行操作,以便形成只包括低于选择的阈值频率的空间频率分量的频率限制的目标剂量图案;数据操作装置,其产生包括由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于点曝光强度对频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。 |
地址 |
荷兰维尔德霍芬 |