发明名称 INSPECTION METHOD OF PHOTO MASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTO MASK, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, TEST MASK AND TEST MASK SET
摘要 <p>테스트 마스크를 이용하여 노광, 현상하여 테스트용 레지스트 패턴을 얻고, 이를 측정하여 실제 노광 테스트 패턴 데이터를 얻는다. 또한, 테스트 마스크에 대해 소정의 광학적 조건에서 광 조사를 행하고, 광 투과 패턴을 촬상 수단에 의해 취득하여 얻어진 광 투과 패턴을 기초로 하여 광 투과 테스트 패턴 데이터를 얻는다. 실제 노광 테스트 패턴 데이터와 광 투과 테스트 패턴 데이터를 비교하고, 이 비교 결과를 기초로 하여 광학적 조건을 설정하고, 검사 대상이 되는 포토마스크에 대해 광 조사를 행하여 얻게 된 광 투과 패턴을 기초로 하여 포토마스크의 검사를 행한다.</p>
申请公布号 KR101070558(B1) 申请公布日期 2011.10.05
申请号 KR20080049958 申请日期 2008.05.29
申请人 发明人
分类号 G01N21/956;G03F1/84;H01L21/027;H01L21/66 主分类号 G01N21/956
代理机构 代理人
主权项
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