光刻装置和器件制造方法

摘要

公开了一种光刻投影装置，其中在基底交换过程中利用遮蔽构件来遮挡该液体供给系统，从而在基底交换过程中确保液体与投影系统的一元件保持接触。该遮蔽构件与支撑投影系统的计量框架连接。通过这种方式，遮蔽构件的位置总是已知的。

主权项

一种光刻投影装置，包括：投影系统，用于将图案从构图部件投影到基底上；液体供给系统，用于将液体供给至该投影系统的一元件与该基底之间的空间；遮蔽构件，基本上可定位成当将该基底从投影系统下方移走时确保该液体保持与所述元件接触；和基底台，用于支撑该基底并包括排液区域，该排液区域可移动至该液体供给系统下方的一位置，并且在该位置处可去除该遮蔽构件下方的液体。