| 发明名称 | 转印片及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种转印片及其制造方法，该转印片具有剥离片和转印层，所述剥离片具有基片、在该基片的面上的一部分形成的不从基片剥离的消光层、及在该基片和消光层的面上形成的脱模层，所述转印层具有在该脱模层的面上形成的硬涂层。据此，对于具有不从基片剥离的部分消光层及被覆该部分消光层的硬涂层的转印片，即便在基片的光泽区域形成了浮垢的情况下，也能防止其表面结构被转印到转印层的最外侧面。 | ||
| 申请公布号 | CN102205755A | 申请公布日期 | 2011.10.05 |
| 申请号 | CN201110005932.1 | 申请日期 | 2011.01.06 |
| 申请人 | 日本写真印刷株式会社 | 发明人 | 前田哲宏;奥原进一郎;北村真一;滨井健太 |
| 分类号 | B41M5/00(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I | 主分类号 | B41M5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 刘建 |
| 主权项 | 一种转印片，其中，具有剥离片和转印层，所述剥离片具有基片、在该基片的面上的一部分形成的不从基片剥离的消光层、及在该基片和消光层的面上形成的脱模层，所述转印层具有在该脱模层的面上形成的硬涂层。 | ||
| 地址 | 日本国京都府 | ||