发明名称 | 氮化物半导体激光元件 | ||
摘要 | 本发明提供一种氮化物系半导体激光元件,其具备:由氮化物系半导体构成的活性层;和形成于该活性层上且由氮化物系半导体构成的p型包覆层。而且,p型包覆层内的活性层侧区域的折射率低于p型包覆层内的活性层侧相反侧区域的折射率。 | ||
申请公布号 | CN102208754A | 申请公布日期 | 2011.10.05 |
申请号 | CN201110065454.3 | 申请日期 | 2011.03.11 |
申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 狩野隆司 |
分类号 | H01S5/22(2006.01)I;H01S5/323(2006.01)I | 主分类号 | H01S5/22(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 雒运朴 |
主权项 | 一种氮化物系半导体激光元件,具备:活性层,其由氮化物系半导体构成;p型包覆层,其形成于所述活性层上且由氮化物系半导体构成,并且,所述p型包覆层内的所述活性层侧区域的折射率比所述p型包覆层内的所述活性层侧相反侧区域的折射率低。 | ||
地址 | 日本国大阪府 |