发明名称 半导体清洗液管理装置及方法
摘要 本发明公开了一种半导体清洗液管理装置,包括:储液单元,用于储存清洗液;浓度液位检测单元,用于检测所述储液单元中清洗液的浓度及液位,并将检测到的浓度数据及液位数据传输给所述控制单元;控制单元,用于根据所述浓度数据及液位数据生成相应的控制信号,并将所述控制信号发送给所述执行单元;执行单元,用于根据所述控制信号执行所述储液单元的清洗液的排放、补充所述储液单元的化学药剂、补充所述储液单元的水、更换所述储液单元的清洗液、回收反应腔体的清洗液、以及供液给反应腔体的动作。本发明通过与反应腔体控制装置的结合,实现了对清洗液进行自动管理,并实现了在没有技术人员对清洗液进行管理的情况下,持续的进行清洗工艺。
申请公布号 CN102208327A 申请公布日期 2011.10.05
申请号 CN201110033084.5 申请日期 2011.01.30
申请人 北京七星华创电子股份有限公司 发明人 郭训容;吴仪;裴立坤;昝威
分类号 H01L21/00(2006.01)I;B08B3/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王莹
主权项 一种半导体清洗液管理装置,其特征在于,包括:依次连接的储液单元(1)、浓度液位检测单元(2)、控制单元(3)和执行单元(4),所述储液单元(1),用于储存清洗液;所述浓度液位检测单元(2),用于检测所述储液单元(1)中清洗液的浓度及液位,并将检测到的浓度数据及液位数据传输给所述控制单元(3);所述控制单元(3),用于根据所述浓度数据及液位数据生成相应的控制信号,并将所述控制信号发送给所述执行单元(4);所述执行单元(4),用于根据所述控制信号执行所述储液单元(1)的清洗液的排放、补充所述储液单元(1)的化学药剂、补充所述储液单元(1)的水、更换所述储液单元(1)的清洗液、回收反应腔体的清洗液、以及供液给反应腔体的动作。
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