用于最优化等离子体处理系统中的大气等离子体的装置

摘要

本发明公开了一种用于在活性离子蚀刻处理过程中清洁衬底的装置。该装置被配置为使用RF发生装置来产生大气等离子体。该装置包括等离子体形成腔，该等离子体形成腔包括由电介质材料组成的一组内腔壁限定的空穴。该装置还包括大气等离子体，该大气等离子体由RF发生装置产生，该大气等离子体从空穴的第一端伸出，以清洁衬底。

主权项

用于在活性离子蚀刻处理过程中清洁衬底的装置，所述装置被配置为通过使用RF能量源来产生大气等离子体，所述装置包括：RF微空心阴极放电清洁装置，包括由内腔壁限定的空穴；所述大气等离子体形成于所述空穴中并从所述空穴的第一端伸出，以清洁所述衬底；以及电介质材料，所述一组内腔壁包含所述电介质材料，所述电介质材料位于所述RF能量源与所述大气等离子体之间。