发明名称 PHOTOLITHOGRAPHY APPARATUS USED IN MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATES
摘要 <p>본 발명은 포토 리소그래피 공정을 수행하는 장치에 관한 것으로, 도포 장치 (또는, 현상 장치)는 서로 층으로 적층되며 동일공정을 수행하는 상부챔버와 하부챔버를 가진다. 이송로봇은 카세트로부터 웨이퍼들을 언로딩하여 상부챔버와 하부챔버로 교대로 번갈아 가면서 웨이퍼를 이송한다. 상부챔버와 하부챔버 각각에는 동일공정을 수행하는 모듈들이 복수개 제공된다.</p>
申请公布号 KR101069821(B1) 申请公布日期 2011.10.04
申请号 KR20040082536 申请日期 2004.10.15
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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