发明名称 光阻保护膜材料及图型之形成方法
摘要
申请公布号 TWI349833 申请公布日期 2011.10.01
申请号 TW095121272 申请日期 2006.06.14
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 畠山润;渡边武;原田裕次
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光阻保护膜材料,其特征系含有具下述一般式(2)所示重覆单位、及由具有下述全氟烷基之重复单位所选出之至少1种或2种以上之重覆单位之高分子化合物,@sIMGTIF!d10003.TIF@eIMG!(式中,R0为氟原子、R1为碳数1~6之直链状或支链状之烷基或伸烷基之至少含有1个以上之氟原子,R2为碳数1~10之直链状、支链状或环状之伸烷基或次烷基,亦可具有氟原子,键结R0或R1形成环亦可,或R1与R2键结后,与键结此等之碳原子同时形成环亦可,形成环时,R1为碳数1~6之直链状或支链状之伸烷基,R2为碳数1~10之直链状或支链状之次烷基,R3、R4为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基、X为-O-、-C(=O)-O-、或-C(=O)-O-R5-C(=O)-O-,R5
地址 日本