发明名称 制作具金字塔结构之矽基板的蚀刻方法及其装置
摘要
申请公布号 TWI349963 申请公布日期 2011.10.01
申请号 TW096118169 申请日期 2007.05.22
申请人 國立中山大學 高雄市鼓山區蓮海路70號 发明人 朱安国;王宗新 台南市归仁区中正十五街10号
分类号 H01L21/306;H01L31/04 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人 陈启舜 高雄市苓雅区中正一路284号12楼
主权项 一种制作具金字塔结构之矽基板的蚀刻方法,其包含步骤:将一矽基板置放于一底座上,并藉由数个间隔单元将一气泡控制单元设置于该底座之上方;将该底座置放于一蚀刻液中进行蚀刻反应并产生数个气泡,且该蚀刻反应所产生之气泡局限于该气泡控制单元内;及进行蚀刻反应至该底座之表面形成数个金字塔结构后,将该底座连同该矽基板由该蚀刻液中取出清洗。
地址 高雄市鼓山区莲海路70号