发明名称 具沟渠式矽覆绝缘层之动态随机存取记忆体装置及其制作方法
摘要
申请公布号 TWI349996 申请公布日期 2011.10.01
申请号 TW096139594 申请日期 2007.10.23
申请人 國立中山大學 高雄市鼓山區蓮海路70號 发明人 林吉聪 高雄市西子湾莲海路70号;黄国栋 高雄市西子湾莲海路70号;林高正
分类号 H01L27/108;H01L21/8242 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人 蔡东贤 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种具沟渠式矽覆绝缘层之动态随机存取记忆体装置,包括:一基板;一氧化层,覆盖该基板,具有复数个槽孔,该等槽孔大致朝一第一方向延伸;一导电半导体层,覆盖该氧化层及该等槽孔,具有一本体、一源极及一汲极,该本体覆盖该等槽孔以形成复数个导电半导体单元,该源极及该汲极分别形成于该本体之二侧边,该二侧边面大致平行该第一方向;一闸极组,具有一闸极介电层及一闸极,该闸极介电层覆盖该本体,该闸极覆盖该闸极介电层;一边衬,覆盖该闸极组之二相对侧面,该二相对侧面大致平行该第一方向;一氧化保护层,覆盖该源极、该汲极、该边衬及该闸极,其具有一第一贯孔、一第二贯孔及一第三贯孔,该第一贯孔、该第二贯孔及该第三贯孔分别形成于该闸极、该源极及该汲极之上方相对位置,以分别显露部分该闸极、部分该源极及部分该汲极;及一电极组,具有一第一电极、一第二电极及一第三电极,分别设置于该第一贯孔、该第二贯孔及该第三贯孔内,以分别电性连接该闸极、该源极及该汲极。
地址 高雄市鼓山区莲海路70号