| 主权项 |
一种光阻组成物，其系含有：(A)含有下述一般式(1)、(2)及(3)所示之化合物之水解性矽烷单体混合物，藉由共水解．缩合所得之聚矽氧树脂(B)酸产生剂(C)含氮有机化合物及(D)有机溶剂所成，@sIMGTIF!d10005.TIF@eIMG!(式中，R1为氟原子、碳数1至4之烷基或碳数1至4之氟化之烷基，R2为碳数1至6之具有直链状、支链状或环状骨架的烃基，R3为具有以作为官能基之酸分解性保护基保护的羧基，除该羧基外可含有卤素、氧或硫原子之碳数3至20之具有直链状、支链状或环状或多环状骨架的有机基，R4系与R2相同定义，R5系具有作为官能基之内酯环，除该内酯环外可含有卤素、氧或硫原子之碳数4至16的有机基，R6系与R2相同定义，X系氢原子、氯原子、溴原子或碳数1至6之直链状、支链状或环状之烷氧基，p为0或1；q为0或1；r为0或1)。如申请专利范围第1项之光阻组成物，其中式(1)之矽烷单体为下述结构(4)所示之矽烷单体，@sIMGTIF!d10006.TIF@eIMG!(但是R2及X系与上述相同定义，n为0或1)。如申请专利范围第1或2项之光阻组成物，其中R5为具有脂肪族环状骨架，尚具有与其键结之5员环内酯骨架，且矽原子与脂肪族环状骨架中之碳原子之一键结。如申请专利范围第1或2项之光阻组成物，其中式(3)之矽烷单体为下述结构(5)或(6)所示之矽烷单体，@sIMGTIF!d10007.TIF@eIMG!(但是Y系氧原子、硫原子或伸甲基，R6及X系与上述相同定义，n为0或1；m为0或1)。如申请专利范围第1或2项之光阻组成物，其中矽烷单体混合物除了一般式(1)、(2)及(3)表示之化合物外，尚含有具有2个以上之这些化合物以外之水解性取代基的水解性单体。如申请专利范围第1或2项之光阻组成物，其中矽烷单体混合物除了一般式(1)、(2)及(3)表示之化合物外，尚含有下述一般式(7)表示之化合物，SiX4(7)(式中X系与上述相同定义)。一种图型形成方法，其特征系使用申请专利范围第1~6项中任一项之光阻组成物，在含有芳香族之树脂膜上形成图型后，以形成之图型作为蚀刻光罩，蚀刻树脂膜，形成含有芳香族之树脂膜的图型。一种含有芳香族之树脂膜之图型形成方法，其特征系于申请专利范围第7项之图型形成方法中，蚀刻时使用含有氧之气体电浆。 |
