摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Inline-Beschichtungsanlage, die wenigstens eine Prozesskammer mit wenigstens zwei nacheinander in Förderrichtung von Substraten durch die Prozesskammer angeordnete Plasmaquellen aufweist. Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine solche Inline-Plasmabeschichtungsanlage bereit zu stellen, die eine kontinuierliche, großflächige und effektive Abscheidung von hochqualitativen Mehrlagen- und/oder Gradientenschichten ermöglicht. Die Aufgabe wird durch eine Inline- Plasmabeschichtungsanlage der oben genannten Gattung gelöst, wobei die wenigstens zwei Plasmaquellen unterschiedliche Plasmaquellen sind, die bei unterschiedlichen Anregungsfrequenzen arbeiten.</p> |
申请人 |
ROTH & RAU AG;MAI, JOACHIM;SCHLEMM, HERMANN;GROSSE, THOMAS;DECKER, DANIEL;GRIMM, MICHAEL |
发明人 |
MAI, JOACHIM;SCHLEMM, HERMANN;GROSSE, THOMAS;DECKER, DANIEL;GRIMM, MICHAEL |