| 发明名称 |
METHOD OF REMOVING RESIDUAL FLUORINE FROM DEPOSITION CHAMBER |
| 摘要 |
Disclosed are methods to remove residual fluorine left in a chamber surface without the use of a plasma device or temperature elevation. The disclosed methods may permit the next step in the deposition process to occur more quickly. |
| 申请公布号 |
WO2011001394(A3) |
申请公布日期 |
2011.09.29 |
| 申请号 |
WO2010IB53002 |
申请日期 |
2010.06.30 |
| 申请人 |
L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE;SONOBE, JUN |
发明人 |
SONOBE, JUN |
| 分类号 |
C23C16/44 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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