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发明名称 METHOD FOR FORMING FERROELECTRIC THIN FILM INCLUDING ACID TREATMENT
摘要
申请公布号 KR20110106508(A) 申请公布日期 2011.09.29
申请号 KR20100025559 申请日期 2010.03.23
申请人 KOREA ELECTRONICS TECHNOLOGY INSTITUTE 发明人 HAN, SEUNG HO;HWANG, HAK IN;CHANG, SE HONG;YANG, WOO SEOK;LEE, HYEUNG GYU
分类号 H01B3/10;C23C16/40;H01L21/31 主分类号 H01B3/10
代理机构 代理人
主权项
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