照射系统和光刻设备

摘要

本发明公开了一种照射系统和一种光刻设备。所述照射系统包括：偏振构件，和独立可控反射元件的阵列，所述偏振构件包括第一和第二偏振修改器，每一偏振修改器连接至致动器，所述致动器配置成将各个偏振修改器移动成与辐射束至少部分相交，使得所述偏振修改器将修改的偏振施加至所述辐射束的至少一部分，所述独立可控反射元件的阵列定位成在所述辐射束穿过所述偏振构件之后接收所述辐射束，所述照射系统还包括控制器，所述控制器能够控制所述致动器，使得所述第一和第二偏振修改器与所述辐射束的不同部分相交。

主权项

一种照射系统，所述照射系统包括：偏振构件，所述偏振构件包括：第一和第二偏振修改器和独立可控反射元件的阵列，每一偏振修改器连接至致动器，所述致动器配置成将各自的偏振修改器移动成与辐射束至少部分相交，使得所述偏振修改器施加修改的偏振至所述辐射束的至少一部分，所述独立可控反射元件的阵列定位成在所述辐射束穿过所述偏振构件之后接收所述辐射束；所述照射系统还包括控制器，所述控制器能够控制所述致动器，使得所述第一和第二偏振修改器与所述辐射束的不同部分相交，所述独立可控反射元件的阵列的一部分接收所述辐射束的、辐射偏振已经由所述第一和第二偏振修改器修改的一部分，且所述独立可控反射元件的阵列的一部分接收所述辐射束的、辐射偏振已经由所述第一偏振修改器修改而没有由所述第二偏振修改器修改的一部分。