发明名称 一种高频晶闸管
摘要 一种高频晶闸管,包括晶闸管,单晶硅片由P+P1N1P2N2非对称结构构成,N2区的图形为渐开线图形,单晶硅片采用N型(100)晶向低阻单晶硅片,P+层由P层研磨减薄扩散后构成,P+层厚度为15μm,P层厚度为60μm。单晶硅片的造型面中,正斜角磨角角度θ1大小为:60º≤θ1≤80º,负斜角磨角角度θ2大小为:3.5°≤θ2≤4.5°。P+层端面上设有钛镍金蒸镀层,厚度分别为:Ti:0.2μm、Ni:0.5μm、Au:0.1μm。制造方法包括以下步骤:单晶硅片的双面设有扩散P层,其中一面由P层研磨减薄扩散后构成P+层;N2区光刻版图形采用渐开线插入式的放大门极结构;对单晶硅片采用扩金和对N2区光刻版图形采用电子辐照的方法控制少子寿命τP;电子束蒸发构成钛镍金蒸镀层;大角度喷砂造型。本发明提高了晶闸管的应用频率,提高产品质量、满足节能降耗的需要。
申请公布号 CN102201434A 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN201010560488.5 申请日期 2010.11.26
申请人 宜昌市晶石电力电子有限公司 发明人 夏吉夫;崔振森;潘福泉
分类号 H01L29/04(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/74(2006.01)I;H01L21/332(2006.01)I 主分类号 H01L29/04(2006.01)I
代理机构 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人 成钢
主权项 一种高频晶闸管,包括晶闸管,其特征在于:单晶硅片(1)由P+P1N1P2N2型非对称结构构成,N2区(4)的图形为渐开线图形。
地址 443000 湖北省宜昌市西陵区绿萝路18号