发明名称 处理容器以及等离子体处理装置
摘要 本发明提供一种处理容器以及等离子体处理装置,能够在等离子体处理装置中容易地进行保护处理容器的内表面用的保护部件的交换,并且能够抑制部件成本,在等离子体处理装置的处理容器(101)中,具有基板搬送用开口(161)的侧壁(101b)的内面由作为保护部件的衬垫(201a)、(201b)、(201c)、(201d)所覆盖。在基板搬送用开口(161)的角落部(161a)因为等离子体集中易于消耗激烈,所以,其周围的衬垫(201a)、(201c)和与该周围的衬垫(201a)、(201c)相比消耗缓慢的衬垫(201b)、(201d)以独立部件的方式构成为可分离。
申请公布号 CN101452805B 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN200810178998.9 申请日期 2008.12.03
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 东条利洋;田中诚治;出口新悟
分类号 H01J37/32(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I 主分类号 H01J37/32(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种处理容器,该处理容器将被处理体收容在内部并且对该被处理体进行等离子体处理,其特征在于,包括:具有开口部分的容器主体;和保护所述容器主体不受由等离子体以及/或者腐蚀性气体所引起的损伤的保护部件,其中,所述保护部件包括:沿着所述容器主体的内壁面设置的第一保护部件;和在所述开口部分的周围,与所述第一保护部件相分离地设置的第二保护部件,所述第二保护部件能够通过只对其进行装卸来进行交换,所述第一保护部件和所述第二保护部件与所述容器主体的壁导通。
地址 日本东京都