发明名称 聚合物薄膜纳米掺杂扬尘装置及其掺杂方法
摘要 一种聚合物制备技术领域的基于化学气相沉积的聚合物薄膜纳米掺杂装置及其掺杂方法,其装置包括:底座、支撑架、顶架以及旋转离心腔,通过将掺杂扬尘装置固定安装于化学气相沉积设备沉积腔内并装填好待掺杂粉体后,将基底放置于沉积旋转台上并密封化学气相沉积密封腔抽真空后开启沉积,待聚合物气体充满沉积腔后启动掺杂扬尘装置,将纳米粉体连续弥散于真空腔内和聚合物蒸汽混合后自然下落沉积于基底材料表面,形成掺杂聚合物薄膜。本发明在原有化学气相沉积原料的前提下将一种或者多种具有特定性能纳米粉体材料与该种聚合物气体混合后在目标基底上沉积获而获得具有多种功能特性的掺杂薄膜。
申请公布号 CN101921993B 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN201010270589.9 申请日期 2010.09.02
申请人 上海交通大学 发明人 刘景全;何庆;杨春生;芮岳峰;闫肖肖
分类号 C23C16/00(2006.01)I 主分类号 C23C16/00(2006.01)I
代理机构 上海交达专利事务所 31201 代理人 王锡麟;王桂忠
主权项 一种基于化学气相沉积的聚合物薄膜纳米掺杂扬尘装置,包括:底座、支撑架、顶架以及旋转离心腔,其中:底座位于最底端,支撑架插于底座预开孔上,支撑架上部与顶架固定连接,旋转离心腔设置于顶架的下方,其特征在于:所述的旋转离心腔包括:粉末容器、出口嘴以及旋转电机,其中:旋转电机上部固定连接于顶架,旋转电机的旋转轴连接于粉末容器,粉末容器的底部垂直向下安装出口嘴。
地址 200240 上海市闵行区东川路800号
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