发明名称 |
非易失性存储器及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种非易失性存储器及其制造方法。所述非易失性存储器包括衬底;部分嵌入所述衬底内的两个分离的结构单元,每个结构单元包括依次设置的耦合介质、浮栅、支撑介质和侧壁,所述耦合介质和所述浮栅嵌入所述衬底内,所述侧壁设置于所述两个分离的结构单元之间且贴附所述耦合介质、浮栅、支撑介质;填充在所述两个分离的结构单元之间的耦合传导介质,所述耦合介质、支撑介质和侧壁包围所述浮栅,所述浮栅与所述耦合传导介质隔离;位于所述结构单元外侧的衬底表面的隧道介质;位于所述隧道介质上的控制栅极,所述控制栅极与所述浮栅隔离。本发明的非易失性存储器结构简单,制作方便,有利于进一步的减小存储单元的尺寸。 |
申请公布号 |
CN102201452A |
申请公布日期 |
2011.09.28 |
申请号 |
CN201110142020.9 |
申请日期 |
2011.05.27 |
申请人 |
上海宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
江红 |
分类号 |
H01L29/788(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/788(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种非易失性存储器,其特征在于,包括:衬底;部分嵌入所述衬底内的两个分离的结构单元,每个结构单元包括耦合介质、浮栅、支撑介质和侧壁,所述耦合介质、浮栅、支撑介质依次设置,所述耦合介质和所述浮栅嵌入所述衬底内,所述侧壁设置于所述两个分离的结构单元之间且贴附所述耦合介质、浮栅、支撑介质;耦合传导介质,所述耦合传导介质填充在所述两个分离的结构单元之间,所述耦合介质、支撑介质和侧壁包围所述浮栅,所述浮栅与所述耦合传导介质隔离;隧道介质,所述隧道介质位于所述结构单元外侧的衬底表面;控制栅极,所述控制栅极位于所述隧道介质上,所述控制栅极与所述浮栅隔离。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号 |