| 发明名称 | 压印平版印刷术系统和方法 | ||
| 摘要 | 使用可控的基底和/或模板的变形来压印基底的系统、方法和过程。在压印平版印刷术过程中，基底和/或模板可定位成单波形态或双波形态。 | ||
| 申请公布号 | CN102203672A | 申请公布日期 | 2011.09.28 |
| 申请号 | CN200980142766.0 | 申请日期 | 2009.10.21 |
| 申请人 | 分子制模股份有限公司 | 发明人 | M·加纳帕斯苏伯拉曼尼安;崔炳镇;M·J·美斯尔 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 茅翊忞 |
| 主权项 | 一种装置，包括：适于支承基底的真空卡盘，所述真空卡盘具有：适于支承所述基底的外直径的外凸台，所述外凸台具有第一高度；以及适于支承所述基底的内直径的内凸台，所述内凸台具有第二高度；其中，确定所述第一高度和所述第二高度以提供单波形态的基底。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯州 | ||