发明名称 | 铜的蚀刻液和基板的制造方法 | ||
摘要 | 本发明的课题是提供在基板的制造工序中籽晶层的除去性高、同时在该籽晶层的除去过程中不易产生咬边的蚀刻液,以及使用该蚀刻液的基板制造方法。本发明提供了含有具有硝基取代基的苯并三唑化合物和有机胺化合物,还含有硫酸和过氧化氢的铜的蚀刻液,以及使用该蚀刻液制造基板的方法。 | ||
申请公布号 | CN102199771A | 申请公布日期 | 2011.09.28 |
申请号 | CN201110070658.6 | 申请日期 | 2011.03.23 |
申请人 | MEC股份有限公司 | 发明人 | 中村真美;藤井隆之;小寺浩史 |
分类号 | C23F1/18(2006.01)I;H05K3/06(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/18(2006.01)I |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 段承恩;陈海红 |
主权项 | 一种铜的蚀刻液,含有硫酸和过氧化氢,其特征在于,还含有具有硝基取代基的苯并三唑化合物和有机胺化合物。 | ||
地址 | 日本兵库县 |