摘要 |
Vorrichtung zum Vorbehandeln und Beschichten von Körpern durch Magnetronzerstäuben, mit – einer Vakuumkammer mit metallischer Kammerwandung (26) und mit darin angeordneten Magnetrons (1, 2) mit Sputter-Targets, – wobei mindestens eines der Magnetrons als HPPMS-Magnetron (1) zum Betrieb nach dem hochleistungsgepulsten Magnetronzerstäuben vorgesehen ist, – wobei dem HPPMS-Magnetron (1) elektrische Pulse zugeführt werden, indem ein Kapazitätselement (6) durch ein Schaltelement (5) mit dem Sputter-Target des HPPMS-Magnetrons (1) verbunden wird, dadurch gekennzeichnet, dass – das Schaltelement (5) an der Kammerwandung (26) angeordnet ist.
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