发明名称 |
在基本无氧和氮的等离子体灰化处理中监测氧和/或氮物种的水平的方法 |
摘要 |
用于在基本无氧和氮的等离子体灰化处理中监测氧和/或氮的水平的方法通常包括使用光发射监测所述等离子体。监测所存在的低水平的氧和/或氮物种对所述等离子体中通常富含的其它物种所产生的效应,并且使其与所述等离子体中存在的氧和氮的量关联。这种所谓”效应检测”方法监测由痕量氧和/或氮物种的存在所造成的与不同于氮和/或氧的物种特别相关的光谱干扰,并且用于以1ppm和大概1ppb的等级的灵敏度定量测定氧和/或氮的量。 |
申请公布号 |
CN101405660B |
申请公布日期 |
2011.09.28 |
申请号 |
CN200780010216.4 |
申请日期 |
2007.03.09 |
申请人 |
艾克塞利斯科技公司 |
发明人 |
帕拉尼库玛朗·萨克希维尔;托马斯·巴克利;艾伦·贝克内尔 |
分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/42(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
王旭 |
主权项 |
一种用于在衬底的基本无氧和氮的等离子体灰化处理中监测氧和/或氮物种的方法,所述方法包括:在固定量的氧的存在下,以及在没有固定量的氧的情况下,监测与等离子体气体组合物的主要组分的比例特别相关的光发射信号的比值;和计算所述基本无氧和氮的等离子体灰化处理过程中的所述比例的比值,并且由采用所述比例的所述比值的模型曲线关联出所述等离子体中的氧和氮物种的量。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |