曝光装置以及基板的曝光方法

摘要

在工件卡盘(21)的吸附面(22)上具有为分隔开相邻的吸附区域(80a、…、80g)而形成的、可与基板W的背面相抵接的间壁(81a、…、81d，82a、…、82d，83a、…、83d)、和可在各吸附区域(80a、…、80g)与基板W的背面相抵接的多个突起(85)，多个曝光装置主体(2～5)的各工件卡盘(21)的吸附面(22)具有大致相同的外形尺寸，而且各工件卡盘(21)的间壁(81a、…、81d，82a、…、82d，83a、…、83d)在每个曝光装置主体(2、…、5)中形成于不同的位置上。

主权项

一种曝光装置，该曝光装置将多个掩模图案依次曝光转印在基板上，其特征在于，所述曝光装置具备通过照射所述曝光用光而将所述掩模的图案曝光转印在所述基板上的多个曝光装置主体，所述曝光装置主体具有：保持具有所述图案的掩模的掩模保持部、具有吸附保持所述基板的吸附面的基板保持部、以及照射曝光用光的照射部，在所述基板保持部的吸附面上设有：为分隔开所邻接的吸附区域而形成并能够与所述基板的背面相抵接的间壁、和在所述吸附区域能够与所述基板的背面相抵接的多个突起，所述多个曝光装置主体的各基板保持部的吸附面具有大致相同的外形尺寸，并且所述各基板保持部的间壁在每个所述曝光装置主体中形成于不同的位置上。