发明名称 PMOS存储单元及由其构成的PMOS存储单元阵列
摘要 本发明揭露由两个晶体管组成的PMOS存储单元及由其所构成的PMOS存储单元阵列,所述PMOS存储单元的其中一个PMOS具有选择栅极,另一个PMOS具有浮置栅极。上述存储单元中与浮置栅极重叠的控制栅极,其是由位于绝缘结构上的多晶硅层所构成。
申请公布号 CN102201413A 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN201010220014.6 申请日期 2010.07.01
申请人 常忆科技股份有限公司 发明人 张有志
分类号 H01L27/115(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;G11C16/04(2006.01)I 主分类号 H01L27/115(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 陈红
主权项 一种由两个晶体管组成的PMOS存储单元,其特征在于,该PMOS存储单元至少包含:一选择PMOS,该选择PMOS的一源极与一漏极是分别由位于一N井中的一第一掺杂区与一第二掺杂区所构成;一浮置PMOS,该浮置PMOS的一源极与一漏极是分别由位于该N井中的该第二掺杂区与一第三掺杂区所构成;以及一控制栅极,其是由位于一绝缘结构上的一第一多晶硅层所构成,且该控制栅极与该浮置栅极的延伸部分重叠。
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