发明名称 真空处理装置
摘要 本发明公开了一种用于真空处理物品(12)的装置(10),其包括处理区(14)和装载区(18),物品可在处理区在处理压力下真空处理,物品可在装载区在环境压力下装入装置中。若干个载体(20)可用于将物品从装载区沿着封闭的通道(24)转移到处理区,以对物品进行真空处理。载体(20)设有在沿着通道转移物品时密封通道内表面的密封装置(26),密封装置(26)阻止气体或蒸汽沿着通道从装载区向处理区通过密封装置,使得在装载区在环境压力下装载并被转移到处理区的物品可以在处理压力下进行真空处理。
申请公布号 CN102203315A 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN200980142356.6 申请日期 2009.10.19
申请人 P2I有限公司 发明人 查尔斯·E·金
分类号 C23C14/56(2006.01)I;B01J3/00(2006.01)I;A43B1/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I 主分类号 C23C14/56(2006.01)I
代理机构 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人 王基才
主权项 一种用于真空处理物品的装置,其包括:通道,用于在环境压力下在装载区接收至少一个载体,载体具有至少一个密封装置,至少一个密封装置在使用时定义一个中间空腔,中间空腔中收容有一个或多个用于处理的物品;定义于通道中的处理区,处理区的压力低于或高于环境压力;用于使载体沿着通道从装载区向处理区和出口区移动的装置;以及至少一个泵或压差装置,其在使用时与通道连通,可降低或增加位于装载区和处理区之间的通道中的载体的内部压力,增加或降低位于处理区和出口区之间的通道中的载体的内部压力。
地址 英国牛津郡艾宾顿密尔顿公园北127号