发明名称 磁控溅射装置以及溅射方法
摘要 本发明提供一种磁控溅射装置以及溅射方法,该磁控溅射装置的磁铁单元具有:内侧磁铁、外侧磁铁、将这些固定的非磁体、以及将内侧磁铁和外侧磁铁的磁极连接的磁轭。磁轭具有板状的形状,被与矩形状地排列的外侧磁铁的长度方向正交的面分割为多个,且被分割的各个磁轭能够更换。
申请公布号 CN102199754A 申请公布日期 2011.09.28
申请号 CN201110072752.5 申请日期 2011.03.25
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 佐佐木雅夫
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王永刚
主权项 一种磁控溅射装置,其特征在于,具备:阴极,将靶的安装面作为表面侧;以及磁铁单元,配置在所述阴极的背面侧,其中,(a)所述磁铁单元具有:由永磁铁构成的内侧磁铁,将一个极性的磁极面朝向所述阴极侧;由永磁铁构成的外侧磁铁,以包围所述内侧磁铁的方式矩形状地排列,将与所述内侧磁铁相反的极性的磁极面朝向所述阴极侧;非磁体,将所述内侧磁铁和所述外侧磁铁固定;以及由强磁体材料构成的磁轭,位于朝向所述阴极的所述内侧磁铁以及所述外侧磁铁的磁极面的相反侧,将所述内侧磁铁和所述外侧磁铁的磁极连接,(b)所述磁轭具有板状的形状,被与所述矩形状地排列的外侧磁铁的长度方向正交的面分割为多个,且被分割的各个磁轭能够更换,(c)所述磁铁单元能够在相对于所述阴极的背面平行的方向上移动。
地址 日本神奈川