气体输送装置

摘要

本发明涉及一种用于在基底位置处的低压原子层沉积的气体输送装置。所述装置包括第一总体细长的喷射器(21)，用于将处理气体供给至处理部位(22)；位于所述处理部位(22)周围的第一排气部位(23)；和位于所述第一排放气体周围的另一喷射器(25)，用于将净化气体或惰性气体在所述处理部位(22，24)周围的出口(26)处供给，所述处理部位面对所述出口周围的位置，以限定至少部分气体密封。

主权项

一种用于在基底位置上进行低压原子层沉积的气体输送装置，包括：第一总体细长的喷射器，用于将处理气体供给至处理部位；位于所述处理部位周围的第一排气部位；和位于所述第一排放气体周围的另一喷射器，用于在所述处理部位周围的出口处供给净化气体或惰性气体，所述处理部位具有面对所述出口周围的位置的壁，以限定至少部分气体密封。