自我清洁并可调节的浆料传送臂

摘要

本发明涉及自我清洁并可调节的浆料传送臂。本发明的实施例提供了一种用于化学机械研磨(CMP)设备的浆料传递和清洗系统，该设备可以自我清洁并且可以可调整地在研磨垫上提供浆料剂及清洗剂。在一个实施例中，流体传递系统具有包含至少一个歧管的分布式浆料传递臂(DSDA)，通常是附接到传递臂的下表面的两个或更多歧管。每一个DSDA歧管包含沿着歧管的长度设置的多个浆料喷嘴。传递臂还包含多个高压清洗喷嘴，其从该传递臂的下表面延伸且沿着传递臂的长度设置，其中该长度平行于分布式浆料传递臂歧管。在一个示例中，传递臂包含彼此平行设置的两个DSDA歧管以及设置在歧管之间的多个高压清洗喷嘴。

主权项

一种用来将流体传递到衬底或垫的表面的设备，包括：传递臂，其可旋转地连接到基座，所述基座可绕固定轴旋转，所述传递臂从所述基座沿径向延伸；至少一个浆料传递线，其耦接到所述传递臂并至少部分沿着所述传递臂的长度延伸；至少一个清洗剂传递线，其耦接到所述传递臂并至少部分沿着所述传递臂的长度延伸；铰链，其设置在所述传递臂上，所述铰链包括用来将所述传递臂固定在预定位置的锁定机构；以及至少一个喷嘴，其以离开所述传递臂的水平面的垂直角度安装，连接到所述至少一个清洗剂传递线并且从所述传递臂向下设置。