| 发明名称 |
A regeneration method of etching solution, an etching method and an etching system |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1911501(B1) |
申请公布日期 |
2011.09.28 |
| 申请号 |
EP20070019492 |
申请日期 |
2007.10.04 |
| 申请人 |
APPRECIA TECHNOLOGY INC. |
发明人 |
IZUTA, NOBUHIKO;WATATSU, HARURU |
| 分类号 |
B01D29/60;B01D29/56;B01D29/66;C09K13/04 |
主分类号 |
B01D29/60 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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