发明名称 POSITION CONTROL APPARATUS INCLUDING ITERATIVE LEARNING CIRCUIT, EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND ITERATIVE LEARNING METHOD FOR USE IN POSITION CONTROL APPARATUS HAVING ITERATIVE LEARNING CIRCUIT INCLUDING LEARNING FILTER
摘要
申请公布号 KR101068319(B1) 申请公布日期 2011.09.28
申请号 KR20090016881 申请日期 2009.02.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;G03F7/20;H01L21/683;H01L21/687 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址