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发明名称 Method for cleaning deposition chamber parts using selective spray etch
摘要
申请公布号 EP2011897(B8) 申请公布日期 2011.09.28
申请号 EP20080159251 申请日期 2008.06.27
申请人 QUANTAM GLOBAL TECHNOLOGIES, LLC 发明人 BAO, LIYUAN;JIANG, ANBEI;TAN, SAMANTHA S. H.
分类号 C23C14/56;B05B12/10;B08B3/08;C23C16/44;C23F1/00;C23F1/08;C23F1/26;C23F1/44;C23G1/00;C23G1/12;C23G3/00 主分类号 C23C14/56
代理机构 代理人
主权项
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