PHOTOREPETEUR POUR LA LITHOGRAPHIE EN EXTREME ULTRA-VIOLET

摘要

L'invention concerne un photorépéteur pour l'exposition de résines lithographiques en extrême ultra-violet. Selon l'invention, le photorépéteur comporte une optique de projection comportant un cadre rigide épais ayant au moins une ouverture sur laquelle est tendue une membrane mince transparente en extrême ultraviolet d'une épaisseur maximale de 300 nanomètres portant un motif de gravures conférant à la membrane mince une fonction d'optique diffractive en transmission à la longueur d'onde utilisée par le photorépéteur. Le masque utilisé est lui-même de préférence réalisé à partir d'un cadre épais ayant une ou plusieurs ouvertures recouverte par une membrane mince transparente portant une couche mince d'un matériau opaque ou partiellement opaque au rayonnement en extrême ultra-violet. Cette couche mince est gravée selon un motif définissant le masque souhaité. Les ouvertures de l'optique de projection sont disposées en regard de celles du masque lorsque le masque et l'optique sont en place dans le photorépéteur.