| 主权项 |
一种基板搬送装置，其特征在于具有：载置基板的支撑台、被配置在上述支撑台下部之一个或可以滑动之由积层而构成的多个板状臂、及分别被设在上述板状臂而使位于该板状臂上侧的上述支撑台或上述板状臂滑动之臂驱动机构；藉着让上述支撑台及上述板状臂在退缩状态的第1位置与伸长状态的第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作，上述各板状臂则在其中具有可收容上述臂驱动机构的开口部。一种基板搬送装置，系被设置在真空处理装置中之真空预备室者，该真空处理装置具备：在真空中针对基板进行处理的真空处理室；及在上述基板被搬进搬出上述真空处理室时可以将之暂时地收容，而其内部保持在真空之上述真空预备室；其特征在于具有：载置基板的支撑台、被配置在上述支撑台下部之一个或可以滑动之由积层而构成的多个板状臂、及分别被设在上述板状臂而使位于该板状臂之上侧的上述支撑台或上述板状臂滑动之臂驱动机构；藉着让上述支撑台及上述板状臂在退缩状态的上述真空预备室内之第1位置与伸长状态的上述真空处理室内之第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作，上述各板状臂则在其中具有可收容上述臂驱动机构的开口部。如申请专利范围第1项或第2项所述之基板搬送装置，其中收容有上述臂驱动机构的上述开口部，系在多个上述板状臂的积层方向在邻接者彼此不重叠的位置贯穿该板状臂而被形成。一种基板搬送装置，其特征在于具有：载置基板的支撑台、被配置在上述支撑台下部的可以滑动之由积层而构成的多个板状臂、及分别被设在上述板状臂而使位于该板状臂上侧的上述支撑台或上述板状臂滑动之臂驱动机构；藉着让上述支撑台及上述板状臂在退缩状态的第1位置与伸长状态的第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作，上述各板状臂则在其中形成在积层方向邻接者彼此不重叠的位置贯穿，而可收容上述臂驱动机构的开口部。如申请专利范围第1、2、或4项所述之基板搬送装置，其中上述臂驱动机构具备：被配置在各个上述板状臂之上述开口部的一对滑轮、与上述滑动方向呈平行地被张设在上述滑轮的皮带、将上述皮带的上部卡合部卡合在上侧之上述板状臂或上述支撑台的第1卡合构件、及将被设在上侧之上述板状臂的上述皮带的下部卡合部固定在下侧之板状臂的第2卡合构件。一种基板搬送方法，系使用基板搬送装置搬送基板者，该基板搬送装置具备：载置基板的支撑台、被配置在上述支撑台下部之一个或可以滑动之由积层而构成的多个板状臂、及分别被设在上述板状臂而使位于该板状臂上侧的上述支撑台或上述板状臂滑动之臂驱动机构；其特征在于：设成可将上述臂驱动机构收容在上述各板状臂之开口部中，藉着让上述支撑台及上述板状臂在退缩状态的第1位置与伸长状态的第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作。如申请专利范围第6项所述之基板搬送方法，其中上述多个板状臂之收容有上述臂驱动机构的上述开口部，系形成在多个上述板状臂的积层方向邻接者彼此不重叠的位置贯穿该板状臂。如申请专利范围第6项或第7项所述之基板搬送方法，其中上述臂驱动机构具备：被配置在各个上述板状臂之上述开口部的一对滑轮、与上述滑动方向呈平行地被张设在上述滑轮的皮带、将上述皮带的上部卡合部卡合在上侧之上述板状臂或上述支撑台的第1卡合构件、及将被设在上侧之上述板状臂的上述皮带的下部卡合部固定在下侧之板状臂的第2卡合构件。如申请专利范围第6或7项所述之基板搬送方法，其中在具备：在真空中针对基板进行处理的真空处理室，及在上述基板被搬进搬出上述真空处理室之过程中可以将之暂时地收容，而其内部保持在真空之真空预备室所构成之真空处理装置中，将上述基板搬送装置设置在上述真空预备室，而将大气侧基板搬送机构设置在上述真空预备室之外部的大气中，上述大气侧基板搬送机构系在上述大气中与上述真空预备室之间进行上述基板的搬进搬出，上述基板搬送装置藉着在上述真空预备室与上述真空处理室之间进行上述基板的搬进搬出，可以在大气中与经由上述真空预备室之上述真空处理室之间进行上述基板的搬进搬出。一种真空处理装置，具备：在真空中针对基板进行特定处理的真空处理室；在上述基板被搬进搬出上述真空处理室之过程可以将之暂时地收容，而其内部保持在真空之真空预备室；及被设在上述真空预备室，而在上述真空预备室内的第1位置与上述真空处理室内的第2位置之间进行上述基板的搬进搬出的基板搬送装置；其特征为：上述基板搬送装置具有：载置基板的支撑台、被配置在上述支撑台下部之一个或可以滑动之由积层而构成的多个板状臂、及分别被设在上述板状臂而使位于该板状臂上侧的上述支撑台或上述板状臂滑动之臂驱动机构；藉着让上述支撑台及上述板状臂在退缩状态的上述真空预备室内之第1位置与伸长状态的上述真空处理室内之第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作，上述各板状臂则在其中具有可收容上述臂驱动机构的开口部。如申请专利范围第10项所述之真空处理装置，其中在上述基板搬送装置中，收容有上述臂驱动机构的上述开口部，系在多个上述板状臂的积层方向在邻接者彼此不重叠的位置贯穿该板状臂而被形成。如申请专利范围第10项或第11项所述之真空处理装置，其中在上述基板搬送装置中，上述臂驱动机构具备：被配置在各个上述板状臂之上述开口部的一对滑轮、与上述滑动方向呈平行地被张设在上述滑轮的皮带、将上述皮带的上部卡合部卡合在上侧之上述板状臂或上述支撑台的第1卡合构件、及将被设在上侧之上述板状臂的上述皮带的下部卡合部固定在下侧之板状臂的第2卡合构件。一种基板搬送装置，其特征在于具备：基底；可以前后滑动而被配置在上述基底上之一个或上下积层而成的多个臂；被设在上述臂之中最上段者而可以前后滑动而用于支撑基板的支撑台；用来驱动上述臂及支撑台的驱动源；及将上述驱动源的驱动力传递到上述各臂及上述支撑台的驱动传递机构；上述驱动传递机构，在让上述臂之中的一个臂以第1行程滑动时，会让位在其上的臂或支撑台以较第1行程为长的第2行程滑动，藉着以上述驱动源及上述驱动传递机构，让上述支撑台及上述一个或多个臂在退缩状态的第1位置与伸长状态的第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作。一种基板搬送装置，系被设置在真空处理装置中之真空预备室者，该真空处理装置具备：在真空中针对基板进行处理的真空处理室；及在上述基板被搬进搬出上述真空处理室时可以将之暂时地收容，而其内部保持在真空之上述真空预备室；其特征在于：具备：基底；可以前后滑动而被配置在上述基底上之一个或上下积层而成的多个臂；被设在上述臂之中最上段者而可以前后滑动而用于支撑基板的支撑台；用来驱动上述臂及支撑台的驱动源；及将上述驱动源的驱动力传递到上述各臂及上述支撑台的驱动传递机构；上述驱动传递机构，在让上述臂之中的一个臂以第1行程滑动时，会让位在其上的臂或支撑台以较第1行程为长的第2行程滑动，藉着以上述驱动源及上述驱动传递机构，让上述支撑台及上述一个或多个臂在退缩状态的上述真空预备室内之第1位置与伸长状态的上述真空处理室内之第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作。如申请专利范围第13项或第14项所述之基板搬送装置，其中上述驱动传递机构具有：让上述一个臂滑动而具有第1滑轮与平行于上述滑动方向而被张设在上述第1滑轮之第1皮带的第1传递部；让位在该臂之正上方的臂或支撑台滑动，而设成与上述第1滑轮呈同轴，具有直径较上述第1滑轮为大的第2滑轮与平行于上述滑动方向而被张设在上述第2滑轮之第2皮带的第2传递部；将上述第1皮带的下部卡合部卡合在该臂之正下方的臂或基底的第1卡合构件；及将上述第2皮带的上部卡合部卡合在该臂之正上方的臂或基底的第2卡合构件。一种基板搬送方法，系使用基板搬送装置搬送基板者，该基板搬送装置具备：基底；可以前后滑动而被配置在上述基底之一个或上下积层而成的多个臂；被设在上述臂之中最上段者而可以前后滑动而用于支撑基板的支撑台；用来驱动上述臂及支撑台的驱动源；及将上述驱动源的驱动力传递到上述臂及支撑台的驱动传递机构；藉由上述驱动传递机构让在上述臂之中的一个臂以第1行程而滑动时，会让位在其上的臂或支撑台以较第1行程为长的第2行程滑动，藉着让上述支撑台及上述板状臂在退缩状态的上述真空预备室内之第1位置与伸长状态的上述真空处理室内之第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作。如申请专利范围第16项所述之基板搬送方法，其中上述驱动传递机构具有：让上述一个臂滑动而具有第1滑轮与平行于上述滑动方向而被张设在上述第1滑轮之第1皮带的第1传递部；让位在该臂之正上方的臂或支撑台滑动，而设成与上述第1滑轮呈同轴，具有直径较上述第1滑轮为大的第2滑轮与平行于上述滑动方向而被张设在上述第2滑轮之第2皮带的第2传递部；将上述第1皮带的下部卡合部卡合在该臂之正下方的臂或基底的第1卡合构件；及将上述第2皮带的上部卡合部卡合在该臂之正上方的臂或基底的第2卡合构件。如申请专利范围第16或17项所述之基板搬送方法，其中在具备：在真空中针对基板进行处理的真空处理室，及在上述基板被搬进搬出上述真空处理室的过程中可以将之暂时地收容，而其内部保持在真空之真空预备室所构成之真空处理装置中，将上述基板搬送装置设置在上述真空预备室，而将大气侧基板搬送机构设置在上述真空预备室之外部的大气中，上述大气侧基板搬送机构系在上述大气中与上述真空预备室之间进行上述基板的搬进搬出，上述基板搬送装置藉着在上述真空预备室与上述真空处理室之间进行上述基板的搬进搬出，可以在大气中与经由上述真空预备室之上述真空处理室之间进行上述基板的搬进搬出。一种真空处理装置，系具备：在真空中针对基板进行特定处理的真空处理室；在上述基板被搬进搬出上述真空处理室之过程可以将之暂时地收容，而其内部保持在真空之真空预备室；及被设在上述真空预备室，而在上述真空预备室内的第1位置与上述真空处理室内的第2位置之间进行上述基板的搬进搬出的基板搬送装置，其特征为：上述基板搬送装置具备：基底；可以前后滑动而被配置在上述基底之一个或上下积层而成的多个臂；被设在上述臂之中最上段者而可以前后滑动而用于支撑基板的支撑台；用来驱动上述臂及支撑台的驱动源；及将上述驱动源的驱动力传递到上述各臂及支撑台的驱动传递机构；上述驱动传递机构，在让上述臂之中的一个臂以第1行程滑动时，会让位在其上的臂或支撑台以较第1行程为长的第2行程滑动，藉着以上述驱动源及上述驱动传递机构，让上述支撑台及上述一个或多个臂在退缩状态的上述真空预备室内之第1位置与伸长状态的上述真空处理室内之第2位置之间变化，而进行上述基板的搬送动作。如申请专利范围第19项所述之真空处理装置，其中上述驱动传递机构具有：让上述一个臂滑动而具有第1滑轮与平行于上述滑动方向而被张设在上述第1滑轮之第1皮带的第1传递部；让位在该臂之正上方的臂或支撑台滑动，而设成与上述第1滑轮呈同轴，具有直径较上述第1滑轮为大的第2滑轮与平行于上述滑动方向而被张设在上述第2滑轮之第2皮带的第2传递部；将上述第1皮带的下部卡合部卡合在该臂之正下方的臂或基底的第1卡合构件；及将上述第2皮带的上部卡合部卡合在该臂之正上方的臂或基底的第2卡合构件。如申请专利范围第1、2、4、13或14项所述之基板搬送装置，其中上述基板为平面显示器基板。如申请专利范围第10、11、19或20项所述之真空处理装置，其中上述基板为平面显示器基板。 |
