发明名称 金属电极制造方法
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.09.21
申请号 TW096112863 申请日期 2007.04.12
申请人 克隆工业有限公司 发明人 金炳基;朴世烔;李炳逸;朴锺旼;宋锡政
分类号 G03F7/039;G03F7/30;H05K3/00;H01L21/28 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 陈启舜 高雄市苓雅区中正一路284号12楼
主权项 一种金属电极制造方法,其步骤包含:利用涂覆及层压方法之一,在一基材之全部表面上形成一光阻层,接着将具有该光阻层之基材的所有表面依序进行预烘、曝光、显影及后制烘烤制程,以形成一金属电极图案,使该基材在不欲形成该金属电极之区域均保留该光阻层;于酸硷值为11至12之强硷条件下,电镀该已形成图案之基材,以便仅于该基材不具有该光阻层之区域形成该金属电极;及自该基材移除残存的该光阻层。依申请专利范围第1项所述之金属电极制造方法,其中该后制烘烤制程系于120至150℃下执行3至20分钟。依申请专利范围第1项所述之金属电极制造方法,其中该光阻层选自一正型光阻而该基材选自一金属板,该正型光阻之混合物包含一硷溶性树脂、一感光化合物、一热固性交链剂、一感光增强剂及一溶剂,且该正型光阻系涂布于该金属板之全部表面。依申请专利范围第4项所述之金属电极制造方法,其中该正型光阻系基于100重量比之硷溶性树脂包含30至80重量比之感光化合物、3至15重量比之感光增强剂、10至30重量比之热固性交链剂及30至120重量比之溶剂。依申请专利范围第1项所述之金属电极制造方法,其中一正型光阻薄膜具有一支撑膜及该光阻层,该光阻层系形成于该支撑膜上,且该正型光阻薄膜包含一硷溶性树脂、一感光化合物、一热固性交链剂及一感光增强剂,该基材系选自一金属板以供该正型光阻薄膜层积于该金属板之全部表面。依申请专利范围第6项所述之金属电极制造方法,其中该光阻层系基于100重量比之硷溶性树脂包含30至80重量比之重氮基感光化合物、10至30重量比之热固性交链剂及3至15重量比之感光增强剂。依申请专利范围第4或6项所述之金属电极制造方法,其中该硷溶性树脂系为一甲酚酚醛树脂。依申请专利范围第8项所述之金属电极制造方法,其中该甲酚酚醛树脂具有一重量平均分子量〔以凝胶液相层析法〔GPC〕为基准〕介于2000至30000之范围。依申请专利范围第8项所述之金属电极制造方法,其中该甲酚酚醛树脂具有一间位/对位-甲酚成份,且该间位/对位-甲酚成份之混合重量比例系介于4:6至6:4之间。依申请专利范围第8项所述之金属电极制造方法,其中该甲酚酚醛树脂系为下述成份之混合:重量平均分子量〔以凝胶液相层析法〔GPC〕为基准〕介于8000至30000之间的甲酚酚醛树脂,及重量平均分子量〔以GPC为基准〕介于2000至8000之间的甲酚酚醛树脂,该二者之混合比例系介于7:3至9:1之间。
地址 南韩
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