发明名称 光阻薄膜辊、及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI349163 申请公布日期 2011.09.21
申请号 TW095120076 申请日期 2006.06.06
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 植松照博;高桥亨;斋藤宏二
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光阻薄膜辊,其系为于基板上形成感光性树脂图型之光阻薄膜辊,其特征为由含有黏着剂聚合物与光聚合启发剂之正型或负型之感光性树脂层、与表面涂布有该感光性树脂层,且支持该经涂布之该感光性树脂层的聚合体薄膜所成之支撑薄膜、与保护该支持薄膜所支持之该感光性树脂层的聚合体薄膜所成之保护薄膜所成,且该支撑薄膜及该保护薄膜之宽度大于该感光性树脂层之宽度,该感光性树脂之宽度方向上的两端位比该支撑薄膜及该保护薄膜之宽度方向上的两端位较为内侧,该感光性树脂层的厚度为1~200i>μ/i>m、自该感光性树脂层之宽度方向上的两端位至该支持薄膜及该保护薄膜之宽度方向上的两端位为止的各距离均为5mm以上、该支持薄膜及该保护薄膜的厚度为1~100i>μ/i>m。一种申请专利范围第1项之光阻薄膜辊之制造方法,其系为于基板上形成感光性树脂图型之光阻薄膜辊,由支撑薄膜、正型或负型之感光性树脂层、保护薄膜依序所成之光阻薄膜辊的制造方法,其特征系于该支撑薄膜上涂布该感光性树脂层,且于该经涂布之感光性树脂层上黏合该保护薄膜后,制造如申请专利范围第1项之光阻薄膜辊。如申请专利范围第2项之光阻薄膜辊的制造方法,其系使该感光性树脂层对于该支撑薄膜呈平行地涂布1列以上之第1的该光阻薄膜辊的制造方法与剪切该第1之光阻薄膜辊后,制造1卷以上之第2的光阻薄膜辊。
地址 日本