发明名称 涂布、显影装置、涂布、显影方法及记忆媒体
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.09.21
申请号 TW096110728 申请日期 2007.03.28
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 松冈伸明;林田安;林伸一
分类号 G03F7/16;G03F7/30;H01L21/027;H01L21/677 主分类号 G03F7/16
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 显影装置,其利用载运区块用输送机构将藉由载体被送入载运区块之基板传递至处理区块,于此处理区块形成包含光阻膜之涂布膜后,透过介面区块将其输送至曝光装置,再令透过该介面区块送回来之曝光后之基板于该处理区块内进行显影处理后,传递至该载运区块;该涂布、显影装置之特征在于:a.复数之涂布膜形成用区块与显影处理用区块互相叠层以构成处理区块;b.各涂布膜形成用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元包含:液体处理单元,用以将涂布液涂布于基板;与加热单元,将涂布有涂布液之基板加热;及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;且复数之涂布膜形成用区块之其中至少一者包含有光阻液涂布用之液体处理单元;c.显影处理用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元包含:加热单元,用以对曝光之基板进行加热处理;与液体处理单元,用以将显影液涂布于基板;及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;d.于载运区块与处理区块之间设有:棚架状之传递平台群,由复数之传递平台所构成,该复数之传递平台配置于分别对应复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块之高度位置,用以在与各区块之输送机构之间进行基板之传递;及上下输送机构,以可自由昇降之方式构成,俾使其可对于各传递平台进行基板之传递;e.于该涂布膜形成用区块、显影处理用区块之其中至少一者内设有一基板检查单元,该基板检查单元对于藉由各区块之基板输送机构所输送之基板进行检查。如申请专利范围第1项之涂布、显影装置,其中于涂布膜形成用区块内设有用以检查光阻膜形成后之基板之基板检查单元,于显影处理用区块内设有检查显影处理后之基板之基板检查单元。如申请专利范围第1项之涂布、显影装置,其中涂布膜形成用区块及/或显影处理用区块之输送机构,系于自载运区块侧朝介面区块侧设置之基板输送用通路内移动,液体处理单元与包含加热单元之处理单元隔着该输送用通路而分别设置,基板检查单元设置于液体处理单元及加热单元侧之其中至少一者处。显影装置,系利用载运区块用之输送机构将藉由载体被送入载运区块之基板传递至处理区块,于此处理区块形成包含光阻膜之涂布膜后,透过介面区块将其输送至曝光装置,再使透过该介面区块回来之曝光后之基板于该处理区块进行显影处理,再将其传递至该载运区块;该涂布、显影装置之特征在于:a.复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块与基板检查用区块互相叠层以构成处理区块;b.各涂布膜形成用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元包含:液体处理单元,用以将涂布液涂布于基板;及加热单元,将涂布有涂布液之基板加热;以及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;且复数之涂布膜形成用区块之其中至少一者包含有光阻液涂布用之液体处理单元;c.显影处理用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元包含:加热单元,用以对曝光之基板进行加热处理;及液体处理单元,用以将显影液涂布于基板;以及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;d.基板检查用区块包含:复数之基板检查单元,用以检查基板;及区块用输送机构,输送基板至此等基板检查单元;e.于载运区块与处理区块之间具有:棚架状之传递平台群,由复数之传递平台所构成,该等传递平台系配置于分别对应复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块、基板检查用区块之高度位置,用以在与各区块之输送机构之间进行基板之传递;及上下输送机构,以可自由昇降之方式构成,俾使其可传递基板至各传递平台。如申请专利范围第1至4项中任一项之涂布、显影装置,其中更将一直行输送区块叠层于处理区块上,该直行输送区块内设有一输送机构,将形成有涂布膜之基板自载运区块侧朝介面区块直行输送。如申请专利范围第4项之涂布、显影装置,其中基板检查用区块包含:基板检查单元1,用以检查光阻膜形成后之基板;及基板检查单元2,用以检查显影处理后之基板;且光阻膜形成后之基板由基板检查单元检查后,通过该基板检查用区块被输送至介面区块。显影方法,使用一涂布、显影装置,该涂布、显影装置具有:a.复数之涂布膜形成用区块与显影处理用区块互相叠层以构成处理区块;b.各涂布膜形成用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元包含:液体处理单元,用以将涂布液涂布于基板;及加热单元,将涂布有涂布液之基板加热;以及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;且复数之涂布膜形成用区块之其中至少一者包含有光阻液涂布用之液体处理单元;c.显影处理用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元包含:加热单元,用以对曝光之基板进行加热处理;及液体处理单元,用以将显影液涂布于基板;以及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;d.于容纳有基板的载体被送出送入之载运区块与处理区块之间设有:棚架状之传递平台群,由复数之传递平台所构成,该复数之传递平台配置于分别对应复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块之高度位置,用以在与各区块之输送机构之间进行基板之传递;及上下输送机构,以可自由昇降之方式构成,俾使其可传递基板至各传递平台;e.于该涂布膜形成用区块内设有用以检查光阻膜形成后之基板之基板检查单元,于显影处理用区块内设有检查显影处理后之基板之基板检查单元;f.更将一直行输送区块叠层于处理区块上,该直行输送区块内设有一输送机构,将形成有涂布膜之基板自载运区块侧朝介面区块直行输送;该涂布、显影方法之特征在于其包含有以下制程:将自载体被送入载运区块之基板传递至处理区块,于涂布膜形成用区块内将光阻膜形成于基板;藉由区块用输送机构将形成有光阻膜之基板输送至设于涂布膜形成用区块内之基板检查单元以进行检查;将于该制程接受检查之基板通过直行输送区块输送至介面区块;令曝光后之基板在显影处理用区块内接受显影处理;其次令显影处理后之基板在设于显影处理用区块内之基板检查单元中接受检查;再将传递至该载运区块。显影方法,使用一涂布、显影装置以进行涂布、显影,该涂布、显影装置具有:a.复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块与基板检查用区块互相叠层以构成处理区块;b.各涂布膜形成用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元具有:液体处理单元,用以将涂布液涂布于基板;与加热单元,将涂布有涂布液之基板加热;以及区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;且复数之涂布膜形成用区块之其中至少一者包含有光阻液涂布用之液体处理单元;c.显影处理用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元具有:加热单元,用以对曝光之基板进行加热处理;与液体处理单元,用以将显影液涂布于基板;及区块用输送机构,于前述处理单元之间输送基板;d.基板检查用区块包含:用以检查涂布光阻后之基板的检查单元与用以检查显影处理后之基板的检查单元;及区块用输送机构,用以输送基板至前述基板检查单元;e.于容纳有基板的载体被送出送入之载运区块与处理区块之间具有:棚架状之传递平台群,由复数之传递平台所构成,该等传递平台系配置于分别对应复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块、基板检查用区块之高度位置,用以在与各区块之输送机构之间进行基板之传递;及上下输送机构,以可自由昇降方式构成,俾使其可对于各传递平台进行基板之传递;该涂布、显影方法之特征在于包含以下制程:将藉由载体送入至载运区块之基板传递至处理区块,于涂布膜形成用区块内将光阻膜形成于基板;藉由区块用输送机构,将形成有光阻膜之基板输送至设于基板检查用区块内之基板检查单元以进行检查;将于前一制程接受检查之基板通过基板检查用区块输送至介面区块;令曝光后之基板在显影处理用区块内接受显影处理;其次令显影处理后之基板在设于该基板检查用区块内之基板检查单元中接受检查;然后将基板传递至该载运区块。显影方法,使用一涂布、显影装置以进行涂布、显影,该涂布、显影装置具有:a.复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块与基板检查用区块互相叠层以构成处理区块;b.各涂布膜形成用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元具有:液体处理单元,用以将涂布液涂布于基板;与加热单元,将涂布有涂布液之基板加热;以与区块用输送机构,输送基板于此等处理单元之间;且复数之涂布膜形成用区块之其中至少一者包含有光阻液涂布用之液体处理单元;c.显影处理用区块包含:复数之处理单元,该复数之处理单元具有:加热单元,用以对曝光之基板进行加热处理;与液体处理单元,用以将显影液涂布于基板;与区块用输送机构,于前述处理单元之间输送基板;d.基板检查用区块包含:用以检查涂布光阻后之基板的检查单元与用以检查显影处理后之基板的检查单元;与区块用输送机构,用以输送基板至前述基板检查单元;e.于容纳有基板的载体被送出送入之载运区块与处理区块之间具有:棚架状之传递平台群,由复数之传递平台所构成,该等传递平台系配置于分别对应复数之涂布膜形成用区块、显影处理用区块、基板检查用区块之高度位置,用以在与各区块之输送机构之间进行基板之传递;与上下输送机构,以可自由昇降方式构成,俾使其可对于各传递平台进行基板之传递;及f.更将一直行输送区块叠层于处理区块上,该直行输送区块内设有一输送机构,用以将形成有涂布膜之基板自载运区块侧朝介面区块直行输送;该涂布、显影方法之特征在于其包含以下制程:将自载体被送入载运区块之基板传递至处理区块,于涂布膜形成用区块内将光阻膜形成于基板;藉由区块用输送机构将形成有光阻膜之基板输送至设于基板检查用区块内之基板检查单元中以进行检查;将于该制程接受检查之基板通过直行输送区块输送至介面区块;令曝光后之基板在显影处理用区块内接受显影处理;其次令显影处理后之基板在设于该基板检查用区块内之基板检查单元中接受检查;再将基板传递至该载运区块。一种记忆媒体,其记忆有一电脑程式,该电脑程式使用于一涂布、显影装置;于该涂布、显影装置中,在基板上形成包含光阻膜之涂布膜后,藉由介面区块将其输送至曝光装置,再对藉由该介面区块送回来之曝光后之基板进行显影处理;该记忆媒体之特征在于:该电脑程式中包含可实施申请专利范围第7至9项中任一项之涂布、显影方法的步骤群。
地址 日本